1. 專利

(1)發(fā)明專利：審查嚴(yán)格、含金量高，發(fā)明分為產(chǎn)品發(fā)明(如機(jī)器、儀器、設(shè)備和用具等)和方法發(fā)明(制造方法)兩大類

(2)實(shí)用新型專利：實(shí)用新型是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。低成本、研制周期短。

(3)外觀專利：即視覺(jué)的新事物，是企業(yè)的無(wú)形資產(chǎn)

2. 軟件著作權(quán)

計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)是指軟件的開(kāi)發(fā)者或者其他權(quán)利人依據(jù)有關(guān)著作權(quán)法律的規(guī)定，對(duì)于軟件作品所享有的各項(xiàng)專有權(quán)利。分為軟件著作權(quán)個(gè)人登記和企業(yè)登記，如果企業(yè)要申報(bào)雙軟認(rèn)證或高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定，需保證著作權(quán)是企業(yè)登記的狀態(tài)。

3. 作品著作權(quán)(版權(quán))

指文學(xué)、藝術(shù)、科學(xué)作品的作者對(duì)其作品享有的權(quán)利(包括財(cái)產(chǎn)權(quán)、人身權(quán))。版權(quán)是知識(shí)產(chǎn)權(quán)的一種類型，它是由自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)以及文學(xué)、音樂(lè)、戲劇、繪畫(huà)、雕塑、攝影、圖片和電影攝影等方面的作品組成。

4. 集成電路布圖設(shè)計(jì)

是指集成電路中至少有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準(zhǔn)備的上述三維配置。集成電路布圖設(shè)計(jì)實(shí)質(zhì)上是一種圖形設(shè)計(jì)，但它并非是工業(yè)品外觀設(shè)計(jì)，不能適用專利法保護(hù)。從專利的的取得程序，專利申請(qǐng)審批的時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，成本較高，不利于技術(shù)的推廣和應(yīng)用。

5. 商標(biāo)

商標(biāo)是用來(lái)區(qū)別一個(gè)經(jīng)營(yíng)者的品牌或服務(wù)和其他經(jīng)營(yíng)者的商品或服務(wù)的標(biāo)記。我國(guó)商標(biāo)法規(guī)定，經(jīng)商標(biāo)局核準(zhǔn)注冊(cè)的商標(biāo)，包括商品商標(biāo)、服務(wù)商標(biāo)和集體商標(biāo)、證明商標(biāo)，商標(biāo)注冊(cè)人享有商標(biāo)專用權(quán)，受法律保護(hù)，如果是馳名商標(biāo)，將會(huì)獲得跨類別的商標(biāo)專用權(quán)法律保護(hù)。